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Industria:Optoelectrónica y óptica de precisión
Aplicación:Óptica a nivel de obleas (WLO), lentes de Fresnel y fabricación de rejillas de difracción
Equipo:Sistema de curado de inundación UV LED de alta uniformidad (longitud de onda de 365 nm)
Un fabricante de componentes ópticos de alta tecnología estaba luchando con las tasas de rendimiento durante la fase de exposición y endurecimiento de la fabricación de microlentes a nivel de obleas.
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Inconsistencia de la irradiación:Las lámparas UV tradicionales no proporcionaron una distribución uniforme de la luz a través de grandes superficies de sustrato.
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Expansión térmica:El calor infrarrojo excesivo deformó delicadas estructuras de lentes submicrónicas durante el proceso de fotolitografía y curado.
En lugar de las bombillas de mercurio tradicionales o los métodos de distribución,Sistema de curado de inundaciones UV LED de alta uniformidaddiseñados específicamente para el procesamiento óptico de grado semiconductor:
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Exposición a la resina recubierta por espín:El sistema proporciona una exposición total a la inundación de la superficie directamente a la capa de resina fotorresistente/UV recubierta con espín a través de una máscara fotográfica.
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Diseño óptico avanzado:Las lentes de diseño personalizado optimizan la distribución de la luz, lo que produce unauniformidad de la irradiación dentro del ± 3%en toda la zona de curado.
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Fuente de luz fría:Operando a una velocidad precisaEspectro de banda estrecha de 365 nm, el sistema elimina la radiación infrarroja, manteniendo el sustrato a temperatura ambiente para proteger las microestructuras de la deformación térmica.
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Consistencia del producto:Las tasas de rechazo causadas por deficiencias en el curado de bordes se redujeron acero, gracias al campo de luz UV ultrauniforme.
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Integridad estructural submicrónica:La eliminación del estrés térmico garantizó una perfecta estabilidad dimensional para las lentes de Fresnel de alta precisión.
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Mejora de la eficiencia de producción:Las capacidades de encendido / apagado instantáneos de LED UV eliminaron los tiempos de calentamiento, maximizando el rendimiento para líneas de semiconductores de alto volumen.
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